全国服务热线
核一级碳化硼微粉98%含量碳化硼
碳化硼俗称黑钻石，其莫氏硬度为9 36......
一、基本特性
高硬度：莫氏硬度约9.3，维氏硬度达30-40GPa，仅次于金刚石和立方氮化硼，显著高于碳化硅和刚玉类磨料
密度低：理论密度仅2.52g/cm³，是已知最硬的陶瓷材料中密度较低的，有利于制备轻质磨具和悬浮液
耐磨性优异：高温下仍保持高硬度和强度，热稳定性好
化学稳定性：耐酸碱腐蚀，不与大多数金属和氧化物反应
中子吸收特性：含高丰度¹⁰B同位素，具有强中子吸收截面，但此特性与研磨抛光应用无直接关联
二、研磨作用机制
硬脆材料的高效去除：碳化硼的硬度介于金刚石与碳化硅之间，对硬质合金、工程陶瓷、宝石材料等能实现有效切削，去除效率显著高于氧化物和碳化硅磨料，又避免了金刚石在某些材料上的化学亲和或过度切削问题。
微破碎自锐：与绿碳化硅类似，碳化硼具有脆性断裂特性，磨粒在磨削过程中通过微破碎不断露出新刃口，保持持续切削能力。但其韧性略高于碳化硅，磨粒寿命相对更长，自锐过程更平缓。
低损伤切削：相比金刚石的高硬度可能造成的深亚表面损伤，碳化硼的"适中"超硬特性使其在加工脆性材料时，能在保证效率的同时控制裂纹深度，有利于获得较好的表面完整性。
三、抛光作用特点
精密抛光能力：超细碳化硼微粉可用于硬质合金、陶瓷、宝石等材料的精密抛光。其硬度足以去除前道工序的微观缺陷，又不会像金刚石那样在软质基体上造成划伤。
悬浮稳定性：密度低特性使碳化硼微粉在水基或油基抛光液中具有较好的悬浮分散性，不易快速沉降，有利于抛光过程的均匀性和一致性。
化学惰性抛光：不与被抛光材料发生化学反应，属于纯机械去除机制，适用于对化学污染敏感的材料（如光学元件、电子陶瓷）。
四、主要应用领域
硬质合金加工：拉丝模、密封环、轴承等硬质合金制品的研磨和抛光。碳化硼是硬质合金精加工的传统磨料，效率优于碳化硅，成本低于金刚石。
工程陶瓷：氧化铝、氧化锆、碳化硅、氮化硅等结构陶瓷的精磨和抛光。尤其适用于复杂形状陶瓷件，碳化硼磨粒的低密度减少了因重力造成的偏磨。
宝石与光学材料：天然宝石（硬度较高品种）、人造水晶、光学玻璃等的研磨抛光。碳化硼微粉在宝石加工中用于粗抛和中抛阶段，金刚石用于最终精抛。
核工业材料：因其中子吸收特性，碳化硼用于核反应堆控制棒等部件的加工，研磨抛光过程需兼顾尺寸精度和材料功能性。
防弹装甲：碳化硼陶瓷装甲板的表面精整，要求在保证弹道性能的前提下获得适当的表面质量。
